Научная
деятельность
Университет ИТМО

Меню

Установка многофотонной литографии

Просмотр в международном научном подразделении «Международный научно-исследовательский центр нанофотоники и метаматериалов»

Метод многофотонной литографии (известный в англоязычной литературе как direct laser writing) позволяет изготавливать истинно трехмерные структуры, имеющие широкие области применения в плазмонике, фотонике, микрооптике и даже в биотехнологии и медицине. Метод основан на многофотонном поглощении света веществом (фоторезистом), когда в результате одновременного поглощения нескольких квантов света, с энергией меньшей, чем энергия активации, происходит полимеризация (или деструкция) резиста. Такой процесс является пороговым, т.е. возможен лишь при достижении определенной плотности фотонов. Использование фемтосекундных лазерных импульсов в сочетании со специальной фокусирующей оптикой позволяет достичь необходимой плотности мощности в ограниченном объеме, называемом вокселем (по аналогии с пикселем для двумерного объекта), что и позволяет создавать трехмерные структуры.

В настоящее время в лабораторию метаматериалов планируется закупка установки трехмерной многофотонной литографии. Данное оборудование позволит создавать полностью трехмерные структуры для широкого диапазона применений в рамках задач лаборатории.

Совмещение трехмерных фотонных компонент, создаваемых с помощью многофотонной литографии, и традиционных двумерных методов так же открывает широкие возможности изготовления полностью оптических чипов.